省エネタイプの真空排気装置。プロセスガス排気用バキュームジェネレータです。
ノズル径：Φ0.5

業種

• 薬ガス供給設備向け機器

従来の高真空バルブの信頼性はそのままに、多彩なプロセスを実現する圧力制御を可能にしました。

業種

• 半導体製造工程（前工程）
• 半導体製造工程（後工程）

CKD独自の成形べローズを採用した特殊構造で長寿命、高耐久性を実現しました。
高い信頼性と使いやすさを備えた高真空バルブです。

業種

• 半導体製造工程（前工程）
• 半導体製造工程（後工程）

ハンドル回転式の高真空用マニュアルバルブです。
アルミボディタイプとSUSボディタイプをご用意しております。

業種

• 半導体製造工程（前工程）
• 半導体製造工程（後工程）

省スペース、メンテナンス性を向上させたプロセスガス供給システムです。
お客様のご要望フローに応じ、設計から製作まで行います。
1.125inch、Wシール対応。

業種

• 半導体製造工程（前工程）
• 薬ガス供給設備向け機器

省スペース、メンテナンス性を向上させたプロセスガス供給システムです。
お客様のご要望フローに応じ、設計から製作まで行います。
1.5inch、Wシール対応。

業種

• 半導体製造工程（前工程）
• 薬ガス供給設備向け機器

省スペース、メンテナンス性を向上させたプロセスガス供給システムです。
お客様のご要望フローに応じ、設計から製作まで行います。
1.5inch、CSシール対応。

業種

• 半導体製造工程（前工程）
• 薬ガス供給設備向け機器

お客様のご要望・フローに応じて設計、製造、検査までCKDがユニット保証します。

業種

• 薬ガス供給設備向け機器
• N2パージ関連機器

大中空構造が、マシン設計の自由度を向上します（中空径：52mm～150mm）。
耐環境性に優れ、性能を向上させた磁気式ABSエンコーダを採用しています。

業種

• 半導体製造工程（後工程）

剛性と精度を追求した高剛性タイプです。
モーメント剛性・アキシャル剛性・ロータねじり剛性を大幅に向上しました。
定格トルク：10～2000N･mをラインアップしています。

業種

• 検査
• 半導体製造工程（後工程）