商品一覧
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- 半導体製造工程
半導体デバイス製造のファシリティから生産プロセス装置まで、高純度、高精度に対応できる商品を「前工程」「後工程」「薬液供給設備向け機器」「薬ガス供給設備向け機器」「N2パージ関連機器」に分けて、ご提案いたします。薬液、ガス、真空を制御するバルブやレギュレータ、制御システムなど数多く取り揃えております。ISO9001に基づく、徹底した品質管理の元、バルブ単体から、バルブやレギュレータなどを組み合わせたパネルにも対応しております。
高真空用機器
真空圧力制御システム
- 形番
- IAVB
高真空用機器
高真空用エアオペレイトバルブ
- 形番
- AVB
CKD独自の成形べローズを採用した特殊構造で長寿命、高耐久性を実現しました。
高い信頼性と使いやすさを備えた高真空バルブです。
- 業種
- 半導体製造工程（前工程）
- 半導体製造工程（後工程）
高真空用機器
高真空用マニュアルバルブ
- 形番
- MVB
ハンドル回転式の高真空用マニュアルバルブです。
アルミボディタイプとSUSボディタイプをご用意しております。
- 業種
- 半導体製造工程（前工程）
- 半導体製造工程（後工程）
集積化ガス供給システム
集積化ガス供給システム
- 形番
- IAGD5
省スペース、メンテナンス性を向上させたプロセスガス供給システムです。
お客様のご要望フローに応じ、設計から製作まで行います。
1.125inch、Wシール対応。
- 業種
- 半導体製造工程（前工程）
- 薬ガス供給設備向け機器
集積化ガス供給システム
集積化ガス供給システム
- 形番
- IAGD4
省スペース、メンテナンス性を向上させたプロセスガス供給システムです。
お客様のご要望フローに応じ、設計から製作まで行います。
1.5inch、Wシール対応。
- 業種
- 半導体製造工程（前工程）
- 薬ガス供給設備向け機器
集積化ガス供給システム
集積化ガス供給システム
- 形番
- IAGD3
省スペース、メンテナンス性を向上させたプロセスガス供給システムです。
お客様のご要望フローに応じ、設計から製作まで行います。
1.5inch、CSシール対応。
- 業種
- 半導体製造工程（前工程）
- 薬ガス供給設備向け機器
集積化ガス供給システム
クリーンパネル
- 形番
- FICS
高精度タイプ
τDISC 大中空径タイプ
- 形番
- FD-s
大中空構造が、マシン設計の自由度を向上します（中空径：52mm～150mm）。
耐環境性に優れ、性能を向上させた磁気式ABSエンコーダを採用しています。
- 業種
- 半導体製造工程（後工程）
高精度タイプ
τDISC 高剛性タイプ
- 形番
- DD-s
剛性と精度を追求した高剛性タイプです。
モーメント剛性・アキシャル剛性・ロータねじり剛性を大幅に向上しました。
定格トルク：10～2000N･mをラインアップしています。
- 業種
- 検査
- 半導体製造工程（後工程）
流量センサ・コントローラ
クリーン機器用P5※・P7※シリーズ 小形流量センサ ラピフロー®
- 形番
- FSM3-P70・FSM3-P80
NEW
クリーン機器用 P5※・P7※シリーズ
【NEW】耐環境仕様(IP65)追加
1台で、空気、窒素、アルゴン、炭酸ガス、混合ガスと5種類のガスに対応可能な流量センサです。
P70：発塵防止
P80：禁油処理
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- 半導体製造工程（後工程）
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