商品一覧
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- 半導体製造工程
半導体デバイス製造のファシリティから生産プロセス装置まで、高純度、高精度に対応できる商品を「前工程」「後工程」「薬液供給設備向け機器」「薬ガス供給設備向け機器」「N2パージ関連機器」に分けて、ご提案いたします。薬液、ガス、真空を制御するバルブやレギュレータ、制御システムなど数多く取り揃えております。ISO9001に基づく、徹底した品質管理の元、バルブ単体から、バルブやレギュレータなどを組み合わせたパネルにも対応しております。
プロセスガス用機器
プロセスガス用マニュアルバルブ
- 形番
- OGD
プロセスガス用機器
プロセスガス用マニュアルバルブ
- 形番
- MGD
マニュアル式メタルダイアフラムバルブ。270°回転方式のハンドル開閉タイプです。
- 業種
- 薬液供給設備向け機器
- 薬ガス供給設備向け機器
- 半導体製造工程（前工程）
- N2パージ関連機器
プロセスガス用機器
バキュームジェネレータ
- 形番
- VG
高真空用機器
真空圧力制御システム
- 形番
- IAVB
高真空用機器
高真空用エアオペレイトバルブ
- 形番
- AVB
CKD独自の成形べローズを採用した特殊構造で長寿命、高耐久性を実現しました。
高い信頼性と使いやすさを備えた高真空バルブです。
- 業種
- 半導体製造工程（前工程）
- 半導体製造工程（後工程）
高真空用機器
高真空用マニュアルバルブ
- 形番
- MVB
一部バリエーション販売終了
ハンドル回転式の高真空用マニュアルバルブです。
アルミボディタイプとSUSボディタイプをご用意しております。
- 業種
- 半導体製造工程（前工程）
- 半導体製造工程（後工程）
集積化ガス供給システム
集積化ガス供給システム
- 形番
- IAGD5
省スペース、メンテナンス性を向上させたプロセスガス供給システムです。
お客様のご要望フローに応じ、設計から製作まで行います。
1.125inch、Wシール対応。
- 業種
- 半導体製造工程（前工程）
- 薬ガス供給設備向け機器
集積化ガス供給システム
集積化ガス供給システム
- 形番
- IAGD4
省スペース、メンテナンス性を向上させたプロセスガス供給システムです。
お客様のご要望フローに応じ、設計から製作まで行います。
1.5inch、Wシール対応。
- 業種
- 半導体製造工程（前工程）
- 薬ガス供給設備向け機器
集積化ガス供給システム
集積化ガス供給システム
- 形番
- IAGD3
省スペース、メンテナンス性を向上させたプロセスガス供給システムです。
お客様のご要望フローに応じ、設計から製作まで行います。
1.5inch、CSシール対応。
- 業種
- 半導体製造工程（前工程）
- 薬ガス供給設備向け機器
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カタログPDF
CKD plus 会員限定
集積化ガス供給システム
クリーンパネル
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