商品一覧

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半導体製造工程

半導体デバイス製造のファシリティから生産プロセス装置まで、高純度、高精度に対応できる商品を「前工程」「後工程」「薬液供給設備向け機器」「薬ガス供給設備向け機器」「N2パージ関連機器」に分けて、ご提案いたします。薬液、ガス、真空を制御するバルブやレギュレータ、制御システムなど数多く取り揃えております。ISO9001に基づく、徹底した品質管理の元、バルブ単体から、バルブやレギュレータなどを組み合わせたパネルにも対応しております。

汎用タイプ

アブソデックス(ABSODEX)

形番
AX1R・AX2R・AX4R・AXD

軸受けやブラケット等を別途設置する必要なく負荷をダイレクトに取り付けるだけで精度よく位置決めができる回転アクチュエータです。
簡単にインデックステーブルの装置を作ることができるので、設計工数と組立工数を削減し、生産設備のシンプル化と生…

業種
  • 組立
  • 検査
  • 半導体製造工程(後工程)

高精度タイプ

τDISC 大中空径タイプ

形番
FD-s

大中空構造が、マシン設計の自由度を向上します(中空径:52mm~150mm)。
耐環境性に優れ、性能を向上させた磁気式ABSエンコーダを採用しています。

業種
  • 半導体製造工程(後工程)
資料・ダウンロード

カタログPDF

取扱説明書

2D CAD

CKD plus 会員限定

高精度タイプ

τDISC 高剛性タイプ

形番
DD-s

剛性と精度を追求した高剛性タイプです。
モーメント剛性・アキシャル剛性・ロータねじり剛性を大幅に向上しました。
定格トルク:10~2000N・mをラインアップしています。

業種
  • 検査
  • 半導体製造工程(後工程)
資料・ダウンロード

カタログPDF

安全上の注意

取扱説明書

2D CAD

CKD plus 会員限定

流量センサ・コントローラ

小形流量センサ ラピフロー®

形番
FSM3

【NEW】耐環境仕様(IP65)追加
1台で、空気、窒素、アルゴン、炭酸ガス、混合ガスと5種類のガスに対応可能な流量センサです。

業種
  • シールドガス
  • 半導体製造工程(後工程)
  • N2パージ関連機器

リニアガイド付シリンダ

リニアスライドシリンダ

形番
LCW

お客様がよくお使いのスペックを標準装備したリニアスライドシリンダのベーシックモデルです。

業種
  • 半導体製造工程(後工程)
  • 組立

リニアガイド付シリンダ

リニアスライドシリンダ

形番
LCR

徹底した軽量化と設計自由度が高い左右対称構造。オプションバリエーション豊富な高剛性リニアガイド付きシリンダです。

業種
  • 半導体製造工程(後工程)
  • 組立

リニアガイド付シリンダ

リニアスライドシリンダ

形番
LCG

高精度・高剛性を重視した幅広ガイドを搭載。設計自由度が高い左右対称構造。オプションバリエーション豊富なリニアガイド付きシリンダです。

業種
  • 半導体製造工程(後工程)
  • 組立

直動式3ポート電磁弁

直動式3ポート弁

形番
3QR・3QB・3QE・3QZ

小形3ポート弁のあらゆる用途に対応します。(エアオペレイトバルブ/シリンダ駆動、吸着搬送、エアブローなど)
正圧専用の3QE/Zシリーズ、正負圧用の3QBシリーズ、正負圧用大流量の3QRシリーズがあります。
【適応シリンダ径:Φ…

業種
  • 半導体製造工程(前工程)
  • 半導体製造工程(後工程)
  • 酸素濃縮器
  • 透析監視装置
  • 歯科医療装置

直動式3ポート電磁弁

ブロックマニホールド

形番
MN3Q

バルブ1連につき3ポート弁を2個搭載し、設置スペースを削減した直動式ブロックマニホールです。給排気ポートの取出し位置が選択できるため、配管取回しの自由度が向上します。
【適応シリンダ径:Φ4~Φ16】

業種
  • 半導体製造工程(前工程)
  • 薬液供給設備向け機器
  • 薬ガス供給設備向け機器
  • N2パージ関連機器

パイロット式3・4・5ポート電磁弁 

パイロット式3・5ポート弁

形番
4GA/BR・M4GA/BR・MN4GA/BR

【NEW】AC200V対応オプションを追加しました。
対応通信拡大しました。

環境性能・安全性・信頼性・使いやすさが進化した3・5ポート弁の高機能タイプです。
【適応シリンダ径:Φ20~Φ100】

業種
  • 組立
  • 空気圧サプライ
  • 精製水製造
  • 調整
  • 濾過
  • 製袋(輸液バックの場合)
  • 充填
  • 滅菌(オートクレーブ)
  • 包装
  • 打錠
  • 培養
  • 分取
  • 滅菌装置
  • 理化学分析装置
  • 半導体製造工程(後工程)
  • 薬液供給設備向け機器
  • 薬ガス供給設備向け機器
  • N2パージ関連機器