商品一覧

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半導体製造工程

半導体デバイス製造のファシリティから生産プロセス装置まで、高純度、高精度に対応できる商品を「前工程」「後工程」「薬液供給設備向け機器」「薬ガス供給設備向け機器」「N2パージ関連機器」に分けて、ご提案いたします。薬液、ガス、真空を制御するバルブやレギュレータ、制御システムなど数多く取り揃えております。ISO9001に基づく、徹底した品質管理の元、バルブ単体から、バルブやレギュレータなどを組み合わせたパネルにも対応しております。

パイロット式3・4・5ポート電磁弁 

PLC対応型ブロックマニホールド

形番
MN3E・MN4E

カセットタイプで、さらに小形化(高さ39.5mm)を実現した高性能3・4ポートブロックマニホールドです。
【適応シリンダ径:Φ20~Φ40】

業種
  • 半導体製造工程(前工程)
  • 薬液供給設備向け機器
  • 薬ガス供給設備向け機器
  • N2パージ関連機器

エアオペレイト式3・4・5ポート弁 

マスタバルブ

形番
4GA/BR・M4GA/BR

環境性能・安全性・信頼性・使いやすさが進化した3・5ポート弁のマスタバルブです。
【適応シリンダ径:Φ20~100】

業種
  • 組立
  • 空気圧サプライ
  • 精製水製造
  • 調整
  • 濾過
  • 製袋(輸液バックの場合)
  • 充填
  • 滅菌(オートクレーブ)
  • 包装
  • 打錠
  • 培養
  • 分取
  • 滅菌装置
  • 理化学分析装置
  • 半導体製造工程(後工程)
  • 薬液供給設備向け機器
  • 薬ガス供給設備向け機器
  • N2パージ関連機器

電空レギュレータ

デジタル電空レギュレータ

形番
EVD

圧力表示やエラー表示機能・ダイレクトメモリ機能など使い易い機能が充実した、小形・高機能な電空レギュレータです。

業種
  • 半導体製造工程(後工程)
  • 特殊用途・搬送

電空レギュレータ

パレクト電空レギュレータ

形番
EVS2

【NEW】バリエーション追加。
30mm幅の小形・軽量・高性能を実現した小形電空レギュレータです。
半導体・精密実装分野におけるパイロットレギュレータの制御・各種押圧コントロール、微速シリンダの制御に最適です。

業種
  • 半導体製造工程(後工程)

マニュアルバルブ

薬液用マニュアルバルブ メタルレスタイプ)

形番
MMD※0M

半導体製造工場における薬液供給設備などでの強酸(塩酸・ふっ酸・硝酸)ラインに対応できるよう設計されたバルブです。

業種
  • 薬液供給設備向け機器
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マニュアルバルブ

給液用薬液マニュアルバルブ

形番
MMD※0H

半導体製造工場における薬液供給設備などでの高圧・高背圧に対応できるよう設計されたバルブです。

業種
  • 薬液供給設備向け機器
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CKD plus 会員限定

マニュアルバルブ

薬液用マニュアルバルブ

形番
MMD※※2・GMMD※※2

薬液用マニュアルバルブのスタンダードタイプ。
成形品の接続オプションが一番豊富なシリーズ。

業種
  • 半導体製造工程(前工程)
  • 薬液供給設備向け機器
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流量調整バルブ

マニュアル流量調整バルブ

形番
FMD00

マニュアル式の流量調整弁(ニードルバルブ)です。

業種
  • 半導体製造工程(前工程)
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流量調整バルブ

電動流量調整バルブ

形番
MNV

電動式の流量調整弁(ニードルバルブ)です。
遠隔操作によって設定流量の変更が可能です。

業種
  • 半導体製造工程(前工程)
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液面センサ

ファインレベルスイッチ

形番
KML

NEW

純水・酸・アルカリ・溶剤など多種流体の液面レベルを高精度で検知し電気信号で出力します。

業種
  • 半導体製造工程(前工程)
  • N2パージ関連機器
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取扱説明書

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