商品一覧

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プロセスガス用機器

プロセスガス用マニュアルバルブ

形番
OGD

90°回転スナップアクション方式のマニュアルバルブです。

業種
  • 薬ガス供給設備向け機器
  • 薬液供給設備向け機器
  • 半導体製造工程(前工程)
  • N2パージ関連機器
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CKD plus 会員限定

プロセスガス用機器

プロセスガス用マニュアルバルブ

形番
MGD

マニュアル式メタルダイアフラムバルブ。270°回転方式のハンドル開閉タイプです。

業種
  • 薬液供給設備向け機器
  • 薬ガス供給設備向け機器
  • 半導体製造工程(前工程)
  • N2パージ関連機器
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プロセスガス用機器

バキュームジェネレータ

形番
VG

省エネタイプの真空排気装置。プロセスガス排気用バキュームジェネレータです。
ノズル径:Φ0.5

業種
  • 薬ガス供給設備向け機器
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高真空用機器

真空圧力制御システム

形番
IAVB

従来の高真空バルブの信頼性はそのままに、多彩なプロセスを実現する圧力制御を可能にしました。

業種
  • 半導体製造工程(前工程)
  • 半導体製造工程(後工程)
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高真空用機器

高真空用エアオペレイトバルブ

形番
AVB

CKD独自の成形べローズを採用した特殊構造で長寿命、高耐久性を実現しました。
高い信頼性と使いやすさを備えた高真空バルブです。

業種
  • 半導体製造工程(前工程)
  • 半導体製造工程(後工程)
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高真空用機器

高真空用マニュアルバルブ

形番
MVB

ハンドル回転式の高真空用マニュアルバルブです。
アルミボディタイプとSUSボディタイプをご用意しております。

業種
  • 半導体製造工程(前工程)
  • 半導体製造工程(後工程)
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集積化ガス供給システム

集積化ガス供給システム

形番
IAGD5

省スペース、メンテナンス性を向上させたプロセスガス供給システムです。
お客様のご要望フローに応じ、設計から製作まで行います。
1.125inch、Wシール対応。

業種
  • 半導体製造工程(前工程)
  • 薬ガス供給設備向け機器
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CKD plus 会員限定

集積化ガス供給システム

集積化ガス供給システム

形番
IAGD4

省スペース、メンテナンス性を向上させたプロセスガス供給システムです。
お客様のご要望フローに応じ、設計から製作まで行います。
1.5inch、Wシール対応。

業種
  • 半導体製造工程(前工程)
  • 薬ガス供給設備向け機器
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CKD plus 会員限定

集積化ガス供給システム

集積化ガス供給システム

形番
IAGD3

省スペース、メンテナンス性を向上させたプロセスガス供給システムです。
お客様のご要望フローに応じ、設計から製作まで行います。
1.5inch、CSシール対応。

業種
  • 半導体製造工程(前工程)
  • 薬ガス供給設備向け機器
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CKD plus 会員限定

集積化ガス供給システム

クリーンパネル

形番
FICS

お客様のご要望・フローに応じて設計、製造、検査までCKDがユニット保証します。

業種
  • 薬ガス供給設備向け機器
  • N2パージ関連機器
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