メタルダイアフラム採用のプロセスガス用バルブの追加バリエーションです。高い信頼性と耐久性を継承しつつ、工法を最適化したエコノミーモデルです。
エアオペレイトタイプ、マニュアルタイプをご用意しております。

業種

• 薬ガス供給設備向け機器
• 薬液供給設備向け機器
• 半導体製造工程（前工程）
• N2パージ関連機器

メタルダイアフラムを採用したプロセスガス用バルブの基幹商品です。
単体、集積タイプだけではなく、3方弁、2連3方弁など多種多様な
バリエーションに対応をしております。

業種

• 薬ガス供給設備向け機器
• 薬液供給設備向け機器
• 半導体製造工程（前工程）
• N2パージ関連機器

微細化の進展により求められる高耐久に対応するプロセスガス用バルブです。
お客様のニーズに応じ、3種類のタイプを準備しております。

業種

• 薬液供給設備向け機器
• 薬ガス供給設備向け機器
• 半導体製造工程（前工程）
• N2パージ関連機器

90°回転スナップアクション方式のマニュアルバルブです。

業種

• 薬ガス供給設備向け機器
• 薬液供給設備向け機器
• 半導体製造工程（前工程）
• N2パージ関連機器

マニュアル式メタルダイアフラムバルブ。270°回転方式のハンドル開閉タイプです。

業種

• 薬液供給設備向け機器
• 薬ガス供給設備向け機器
• 半導体製造工程（前工程）
• N2パージ関連機器

省エネタイプの真空排気装置。プロセスガス排気用バキュームジェネレータです。
ノズル径：Φ0.5

業種

• 薬ガス供給設備向け機器

従来の高真空バルブの信頼性はそのままに、多彩なプロセスを実現する圧力制御を可能にしました。

業種

• 半導体製造工程（前工程）
• 半導体製造工程（後工程）

CKD独自の成形べローズを採用した特殊構造で長寿命、高耐久性を実現しました。
高い信頼性と使いやすさを備えた高真空バルブです。

業種

• 半導体製造工程（前工程）
• 半導体製造工程（後工程）

ハンドル回転式の高真空用マニュアルバルブです。
アルミボディタイプとSUSボディタイプをご用意しております。

業種

• 半導体製造工程（前工程）
• 半導体製造工程（後工程）

省スペース、メンテナンス性を向上させたプロセスガス供給システムです。
お客様のご要望フローに応じ、設計から製作まで行います。
1.125inch、Wシール対応。

業種

• 半導体製造工程（前工程）
• 薬ガス供給設備向け機器