产品列表

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半导体制造工序

电子样本

从半导体元件制造设备至生产工艺装置,分别按“前工序”、“后工序”、“化学液体供给设备用元件”、“化学气体供给设备用元件”、“氮气清洗关联元件”提出支持高纯度、高精度的产品提案。备有许多可对化学液体、气体、真空进行控制的阀门和减压阀、控制系统等。在依照ISO9001进行彻底的品质管理的基础上,还对应从阀门单品到组合了阀门和减压阀等的面板。

液位传感器

数字显示式精致液位开关

型号
KML

NEW

高精度检测纯水、酸、碱、溶剂等多种流体的液位,以电信号的形式输出。

行业
  • 半导体制造工序(前工序)
  • 氮气清洗关联元件
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安全注意事项

2D CAD

3D CAD

CKD plus 仅限会员

通用型

直驱马达(ABSODEX)

型号
AX1R・AX2R・AX4R・AXD

NEW

无需另行设置轴承和支撑件等,只需直接承载负荷,即可精度地进行定位的旋转执行器。
因为可轻松制作分度单元的装置,所以减少了设计工时和组装工时,使得生产设备更加简洁化、效率化。

高精度型:AX1R系列
高速旋转型:AX…

行业
  • 组装
  • 检查
  • 半导体制造工序(后工序)

先导式3・4・5通电磁阀

先导式3・5通阀

型号
4GA/BR・M4GA/BR・MN4GA/BR

NEW

【NEW】扩大了对应通信。

优化了环境性能、安全性、可靠性、易用性的3、5通阀。高功能型。
【适用缸径:Φ20~Φ100】

行业
  • 组装
  • 气源供给装置
  • 精制水生产
  • 调整
  • 过滤
  • 制袋(输液袋)
  • 填充
  • 杀菌(高压灭菌器)
  • 包装
  • 压片
  • 培养
  • 分装
  • 灭菌装置
  • 理化分析设备
  • 半导体制造工序(后工序)
  • 化学液体供给设备用元件
  • 化学气体供给设备用元件
  • 氮气清洗关联元件

过滤器

硅氧烷・臭氧去除器

型号
SFX

NEW

专用于硅氧烷吸附及臭氧分解的去除器。
99%以上的高去除率使得压缩空气、氮气在保持加压状态下,可以大流量使用。

行业
  • 半导体制造工序(后工序)
  • 安装
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安全注意事项

操作说明书

2D CAD

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CKD plus 仅限会员

工艺气体用减压阀

工艺气体用减压阀

型号
PGM

NEW

CKD的工艺气体减压阀拥有行业领先的密封性能、滞后性和重复性。
通过供气的高精度压力/流量调整,实现稳定的工艺控制。

行业
  • 半导体制造工序(前工序)
  • 化学液体供给设备用元件
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安全注意事项

2D CAD

3D CAD

CKD plus 仅限会员

电空减压阀

PARECT 电空减压阀

型号
EVS2

NEW

【NEW】追加种类
本品是30mm宽的小型、轻量、高性能电空减压阀。最适合半导体、精密贴装领域的先导减压阀的控制、各种按压控制、微速气缸控制。

行业
  • 半导体制造工序(后工序)
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安全注意事项

操作说明书

2D CAD

3D CAD

CKD plus 仅限会员

真空关联元件

小型真空减压阀

型号
VSRVV

NEW

按压锁定型小型真空减压阀。

行业
  • 搬运
  • 组装
  • 移载
  • 检查
  • 安装
  • 半导体制造工序(后工序)
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电子样本

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安全注意事项

3D CAD

CKD plus 仅限会员

流量传感器・控制器

小型流量传感器 RAPIFLOW®

型号
FSM3

NEW

【NEW】追加耐环境规格(IP65)
1个FSM3能够对应空气,氮气,氩气,二氧化碳和混合气的5种气体。

行业
  • 保护气体
  • 半导体制造工序(后工序)
  • 氮气清洗关联元件

流量传感器・控制器

小型流量控制器 RAPIFLOW®

型号
FCM

NEW

是将流量传感器功能、比例控制功能、阀功能单元化,进行必要流量控制的设备。

行业
  • 保护气体
  • 氮气清洗关联元件
  • 理化分析设备

先导式3・4・5通电磁阀

PLC对应型模块集成阀

型号
MN3E・MN4E

采用盒式设计,是进一步实现了小型化(高39.5mm)的高性能3・4通模块集成阀。
【适用缸径:Φ20~Φ40】

行业
  • 半导体制造工序(前工序)
  • 化学液体供给设备用元件
  • 化学气体供给设备用元件
  • 氮气清洗关联元件