产品列表

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半导体制造工序

电子样本

从半导体元件制造设备至生产工艺装置,分别按“前工序”、“后工序”、“化学液体供给设备用元件”、“化学气体供给设备用元件”、“氮气清洗关联元件”提出支持高纯度、高精度的产品提案。备有许多可对化学液体、气体、真空进行控制的阀门和减压阀、控制系统等。在依照ISO9001进行彻底的品质管理的基础上,还对应从阀门单品到组合了阀门和减压阀等的面板。

高真空用元件

真空压力控制系统

型号
IAVB

既保持了高真空阀原本的可靠性,还能进行可实现多种工艺的压力控制。

行业
  • 半导体制造工序(前工序)
  • 半导体制造工序(后工序)
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安全注意事项

2D CAD

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高真空用元件

高真空用气控阀

型号
AVB

结构特殊,采用CKD独有的成型波纹管,实现了长寿命、高耐久性。
可靠性高且方便易用的高真空阀。

行业
  • 半导体制造工序(前工序)
  • 半导体制造工序(后工序)
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电子样本

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安全注意事项

2D CAD

3D CAD

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高真空用元件

高真空用手动阀

型号
MVB

手柄旋转式高真空用手动阀。
备有铝阀体型和SUS阀体型。

行业
  • 半导体制造工序(前工序)
  • 半导体制造工序(后工序)
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2D CAD

3D CAD

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集成化供气系统

集成化供气系统

型号
IAGD5

省空间且提高了维护性的工艺气体供给系统。
从设计到制作均可根据客户需要的流程进行。
1.125inch、采用W密封。

行业
  • 半导体制造工序(前工序)
  • 化学气体供给设备用元件
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电子样本

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集成化供气系统

集成化供气系统

型号
IAGD4

省空间且提高了维护性的工艺气体供给系统。
从设计到制作均可根据客户需要的流程进行。
1.5inch、采用W密封。

行业
  • 半导体制造工序(前工序)
  • 化学气体供给设备用元件
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电子样本

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集成化供气系统

集成化供气系统

型号
IAGD3

省空间且提高了维护性的工艺气体供给系统。
从设计到制作均可根据客户需要的流程进行。
1.5inch,采用CS密封。

行业
  • 半导体制造工序(前工序)
  • 化学气体供给设备用元件
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集成化供气系统

洁净面板

型号
FICS

可根据客户的要求和流程进行设计、制造、检查,CKD提供单元保证。

行业
  • 化学气体供给设备用元件
  • 氮气清洗关联元件
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安全注意事项

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高精度型

τDISC 大中空径型

型号
FD-s

大中空结构可提高了设备设计的自由度(中空径:52mm~150mm)。
采用具有优异的耐环境性和改进性能的磁性ABS编码器。

行业
  • 半导体制造工序(后工序)
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操作说明书

软件

2D CAD

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高精度型

τDISC 高刚性型

型号
DD-s

追求刚性和精度的高刚性类型。
大幅提高力矩刚性、轴向刚性、转子抗扭刚性。
额定转矩:10~2000N・m。

行业
  • 检查
  • 半导体制造工序(后工序)
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操作说明书

软件

2D CAD

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流量传感器・控制器

洁净室用P5※・P7※系列 小型流量传感器 RAPIFLOW®

型号
FSM3-P70・FSM3-P80

NEW

洁净元件用 P5※ / P7※系列

【NEW】追加耐环境规格(IP65)
1个FSM3能够对应空气,氮气,氩气,二氧化碳和混合气的5种气体。

P70 : 防止发尘
P80 : 禁油处理

行业
  • 半导体制造工序(后工序)