商品一覧
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- 半導体製造工程
- 半導体製造工程(前工程)
半導体デバイス製造のファシリティから生産プロセス装置まで、高純度、高精度に対応できる商品を「前工程」「後工程」「薬液供給設備向け機器」「薬ガス供給設備向け機器」「N2パージ関連機器」に分けて、ご提案いたします。薬液、ガス、真空を制御するバルブやレギュレータ、制御システムなど数多く取り揃えております。ISO9001に基づく、徹底した品質管理の元、バルブ単体から、バルブやレギュレータなどを組み合わせたパネルにも対応しております。
高真空用機器
高真空用マニュアルバルブ
- 形番
- MVB
一部バリエーション販売終了
ハンドル回転式の高真空用マニュアルバルブです。
アルミボディタイプとSUSボディタイプをご用意しております。
- 業種
- 半導体製造工程(前工程)
- 半導体製造工程(後工程)

プロセスガス用機器
プロセスガス用バルブ
- 形番
- LGD
メタルダイアフラム採用のプロセスガス用バルブの追加バリエーションです。高い信頼性と耐久性を継承しつつ、工法を最適化したエコノミーモデルです。
エアオペレイトタイプ、マニュアルタイプをご用意しております。
- 業種
- 薬ガス供給設備向け機器
- 薬液供給設備向け機器
- 半導体製造工程(前工程)
- N2パージ関連機器

プロセスガス用機器
エアオペレイトバルブ
- 形番
- AGD
メタルダイアフラムを採用したプロセスガス用バルブの基幹商品です。
単体、集積タイプだけではなく、3方弁、2連3方弁など多種多様な
バリエーションに対応をしております。
- 業種
- 薬ガス供給設備向け機器
- 薬液供給設備向け機器
- 半導体製造工程(前工程)
- N2パージ関連機器

高耐久バルブ
高温・高耐久ガスバルブ
- 形番
- AGD
微細化の進展により求められる高耐久に対応するプロセスガス用バルブです。
お客様のニーズに応じ、3種類のタイプを準備しております。
- 業種
- 薬液供給設備向け機器
- 薬ガス供給設備向け機器
- 半導体製造工程(前工程)
- N2パージ関連機器

プロセスガス用機器
プロセスガス用マニュアルバルブ
- 形番
- OGD
プロセスガス用機器
プロセスガス用マニュアルバルブ
- 形番
- MGD
マニュアル式メタルダイアフラムバルブ。270°回転方式のハンドル開閉タイプです。
- 業種
- 薬液供給設備向け機器
- 薬ガス供給設備向け機器
- 半導体製造工程(前工程)
- N2パージ関連機器

プロセスガス用レギュレータ
プロセスガス用レギュレータ
- 形番
- PGM
業界最高クラスのシール性能・ヒステリシス・繰り返し再現性を誇るCKDのプロセスガスレギュレータ。
供給ガスの高精度な圧力/流量調整で安定プロセスを実現します。
- 業種
- 半導体製造工程(前工程)
- 薬液供給設備向け機器

わかば商品【特別仕様品】
小形電磁比例弁 【特別仕様品】
- 形番
- 3QB
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カタログPDF
CKD plus 会員限定
高真空用機器
電動真空弁
- 形番
- EVB
2021/3/31販売終了
【販売終了品】
代替商品:IAVBシリーズ
モータ駆動により、弁を開度調整して多彩なコンダクタンスを実現した電動真空弁です。
- 業種
- 半導体製造工程(前工程)
- 半導体製造工程(後工程)

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