商品一覧
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- 半導体製造工程
- 半導体製造工程(前工程)
半導体デバイス製造のファシリティから生産プロセス装置まで、高純度、高精度に対応できる商品を「前工程」「後工程」「薬液供給設備向け機器」「薬ガス供給設備向け機器」「N2パージ関連機器」に分けて、ご提案いたします。薬液、ガス、真空を制御するバルブやレギュレータ、制御システムなど数多く取り揃えております。ISO9001に基づく、徹底した品質管理の元、バルブ単体から、バルブやレギュレータなどを組み合わせたパネルにも対応しております。
高真空用機器
高真空用エアオペレイトバルブ
- 形番
- AVB
CKD独自の成形べローズを採用した特殊構造で長寿命、高耐久性を実現しました。
高い信頼性と使いやすさを備えた高真空バルブです。
- 業種
- 半導体製造工程(前工程)
- 半導体製造工程(後工程)

高真空用機器
高真空用マニュアルバルブ
- 形番
- MVB
ハンドル回転式の高真空用マニュアルバルブです。
アルミボディタイプとSUSボディタイプをご用意しております。
- 業種
- 半導体製造工程(前工程)
- 半導体製造工程(後工程)

集積化ガス供給システム
集積化ガス供給システム
- 形番
- IAGD5
省スペース、メンテナンス性を向上させたプロセスガス供給システムです。
お客様のご要望フローに応じ、設計から製作まで行います。
1.125inch、Wシール対応。
- 業種
- 半導体製造工程(前工程)
- 薬ガス供給設備向け機器

集積化ガス供給システム
集積化ガス供給システム
- 形番
- IAGD4
省スペース、メンテナンス性を向上させたプロセスガス供給システムです。
お客様のご要望フローに応じ、設計から製作まで行います。
1.5inch、Wシール対応。
- 業種
- 半導体製造工程(前工程)
- 薬ガス供給設備向け機器

集積化ガス供給システム
集積化ガス供給システム
- 形番
- IAGD3
省スペース、メンテナンス性を向上させたプロセスガス供給システムです。
お客様のご要望フローに応じ、設計から製作まで行います。
1.5inch、CSシール対応。
- 業種
- 半導体製造工程(前工程)
- 薬ガス供給設備向け機器

高真空用機器
電動真空弁
- 形番
- EVB
2021/3/31販売終了
【販売終了品】
代替商品:IAVBシリーズ
モータ駆動により、弁を開度調整して多彩なコンダクタンスを実現した電動真空弁です。
- 業種
- 半導体製造工程(前工程)
- 半導体製造工程(後工程)

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