商品一覧

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半導体製造工程
半導体製造工程(前工程)

半導体デバイス製造のファシリティから生産プロセス装置まで、高純度、高精度に対応できる商品を「前工程」「後工程」「薬液供給設備向け機器」「薬ガス供給設備向け機器」「N2パージ関連機器」に分けて、ご提案いたします。薬液、ガス、真空を制御するバルブやレギュレータ、制御システムなど数多く取り揃えております。ISO9001に基づく、徹底した品質管理の元、バルブ単体から、バルブやレギュレータなどを組み合わせたパネルにも対応しております。

高真空用機器

高真空用マニュアルバルブ

形番
MVB

一部バリエーション販売終了

ハンドル回転式の高真空用マニュアルバルブです。
アルミボディタイプとSUSボディタイプをご用意しております。

業種
  • 半導体製造工程(前工程)
  • 半導体製造工程(後工程)

プロセスガス用機器

プロセスガス用バルブ

形番
LGD

メタルダイアフラム採用のプロセスガス用バルブの追加バリエーションです。高い信頼性と耐久性を継承しつつ、工法を最適化したエコノミーモデルです。
エアオペレイトタイプ、マニュアルタイプをご用意しております。

業種
  • 薬ガス供給設備向け機器
  • 薬液供給設備向け機器
  • 半導体製造工程(前工程)
  • N2パージ関連機器

プロセスガス用機器

エアオペレイトバルブ

形番
AGD

メタルダイアフラムを採用したプロセスガス用バルブの基幹商品です。
単体、集積タイプだけではなく、3方弁、2連3方弁など多種多様な
バリエーションに対応をしております。

業種
  • 薬ガス供給設備向け機器
  • 薬液供給設備向け機器
  • 半導体製造工程(前工程)
  • N2パージ関連機器

高耐久バルブ

高温・高耐久ガスバルブ

形番
AGD

微細化の進展により求められる高耐久に対応するプロセスガス用バルブです。
お客様のニーズに応じ、3種類のタイプを準備しております。

業種
  • 薬液供給設備向け機器
  • 薬ガス供給設備向け機器
  • 半導体製造工程(前工程)
  • N2パージ関連機器
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安全上の注意

2D CAD

CKD plus 会員限定

プロセスガス用機器

プロセスガス用マニュアルバルブ

形番
OGD

90°回転スナップアクション方式のマニュアルバルブです。

業種
  • 薬ガス供給設備向け機器
  • 薬液供給設備向け機器
  • 半導体製造工程(前工程)
  • N2パージ関連機器

プロセスガス用機器

プロセスガス用マニュアルバルブ

形番
MGD

マニュアル式メタルダイアフラムバルブ。270°回転方式のハンドル開閉タイプです。

業種
  • 薬液供給設備向け機器
  • 薬ガス供給設備向け機器
  • 半導体製造工程(前工程)
  • N2パージ関連機器

プロセスガス用レギュレータ

プロセスガス用レギュレータ

形番
PGM

業界最高クラスのシール性能・ヒステリシス・繰り返し再現性を誇るCKDのプロセスガスレギュレータ。
供給ガスの高精度な圧力/流量調整で安定プロセスを実現します。

業種
  • 半導体製造工程(前工程)
  • 薬液供給設備向け機器
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わかば商品【特別仕様品】

小形電磁比例弁 【特別仕様品】

形番
3QB

電流に比例して流量制御できる比例電磁弁です。
10mm幅の超小型、静音設計。装置の省スペース化に貢献します。

業種
  • 半導体製造工程(前工程)
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高真空用機器

電動真空弁

形番
EVB

2021/3/31販売終了

【販売終了品】
代替商品:IAVBシリーズ

モータ駆動により、弁を開度調整して多彩なコンダクタンスを実現した電動真空弁です。

業種
  • 半導体製造工程(前工程)
  • 半導体製造工程(後工程)
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