裏配管仕様のマニホールド電磁弁です。食品機械、水処理プラント、半導体製造装置など、省スペースの制御盤への設置に最適です。ガスケット*1との組み合わせにより、防滴性が求められる制御盤においても、エアと電気の分離設置が可能です。

業種

• 半導体製造工程（前工程）
• 薬ガス供給設備向け機器

バルブ1連につき3ポート弁を2個搭載し、設置スペースを削減した直動式ブロックマニホールです。給排気ポートの取出し位置が選択できるため、配管取回しの自由度が向上します。
【適応シリンダ径：Φ４~Φ16】

業種

• 半導体製造工程（前工程）
• 薬液供給設備向け機器
• 薬ガス供給設備向け機器
• N2パージ関連機器

【NEW】AC200V対応オプションを追加しました。
対応通信拡大しました。

環境性能・安全性・信頼性・使いやすさが進化した3・5ポート弁の高機能タイプです。
【適応シリンダ径：Φ20～Φ100】

業種

• 組立
• 空気圧サプライ
• 精製水製造
• 調整
• 濾過
• 製袋(輸液バックの場合)
• 充填
• 滅菌(オートクレーブ)
• 包装
• 打錠
• 培養
• 分取
• 滅菌装置
• 理化学分析装置
• 半導体製造工程（後工程）
• 薬液供給設備向け機器
• 薬ガス供給設備向け機器
• N2パージ関連機器

カセットタイプで、さらに小形化（高さ39.5mm）を実現した高性能3・4ポートブロックマニホールドです。
【適応シリンダ径：Φ20~Φ40】

業種

• 半導体製造工程（前工程）
• 薬液供給設備向け機器
• 薬ガス供給設備向け機器
• N2パージ関連機器

環境性能・安全性・信頼性・使いやすさが進化した3・5ポート弁のマスタバルブです。
【適応シリンダ径：Φ20~100】

業種

• 組立
• 空気圧サプライ
• 精製水製造
• 調整
• 濾過
• 製袋(輸液バックの場合)
• 充填
• 滅菌(オートクレーブ)
• 包装
• 打錠
• 培養
• 分取
• 滅菌装置
• 理化学分析装置
• 半導体製造工程（後工程）
• 薬液供給設備向け機器
• 薬ガス供給設備向け機器
• N2パージ関連機器

省スペース、メンテナンス性を向上させたプロセスガス供給システムです。
お客様のご要望フローに応じ、設計から製作まで行います。
1.125inch、Wシール対応。

業種

• 半導体製造工程（前工程）
• 薬ガス供給設備向け機器

省スペース、メンテナンス性を向上させたプロセスガス供給システムです。
お客様のご要望フローに応じ、設計から製作まで行います。
1.5inch、Wシール対応。

業種

• 半導体製造工程（前工程）
• 薬ガス供給設備向け機器

省スペース、メンテナンス性を向上させたプロセスガス供給システムです。
お客様のご要望フローに応じ、設計から製作まで行います。
1.5inch、CSシール対応。

業種

• 半導体製造工程（前工程）
• 薬ガス供給設備向け機器

お客様のご要望・フローに応じて設計、製造、検査までCKDがユニット保証します。

業種

• 薬ガス供給設備向け機器
• N2パージ関連機器

メタルダイアフラム採用のプロセスガス用バルブの追加バリエーションです。高い信頼性と耐久性を継承しつつ、工法を最適化したエコノミーモデルです。
エアオペレイトタイプ、マニュアルタイプをご用意しております。

業種

• 薬ガス供給設備向け機器
• 薬液供給設備向け機器
• 半導体製造工程（前工程）
• N2パージ関連機器