商品一覧
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- 半導体製造工程
 - 半導体製造工程(後工程)
 
半導体デバイス製造のファシリティから生産プロセス装置まで、高純度、高精度に対応できる商品を「前工程」「後工程」「薬液供給設備向け機器」「薬ガス供給設備向け機器」「N2パージ関連機器」に分けて、ご提案いたします。薬液、ガス、真空を制御するバルブやレギュレータ、制御システムなど数多く取り揃えております。ISO9001に基づく、徹底した品質管理の元、バルブ単体から、バルブやレギュレータなどを組み合わせたパネルにも対応しております。
エアオペレイト式3・4・5ポート弁
マスタバルブ
- 形番
 - 4GA/BR・M4GA/BR
 
環境性能・安全性・信頼性・使いやすさが進化した3・5ポート弁のマスタバルブです。
【適応シリンダ径:Φ20~100】
- 業種
 - 組立
 - 空気圧サプライ
 - 精製水製造
 - 調整
 - 濾過
 - 製袋(輸液バックの場合)
 - 充填
 - 滅菌(オートクレーブ)
 - 包装
 - 打錠
 - 培養
 - 分取
 - 滅菌装置
 - 理化学分析装置
 - 半導体製造工程(後工程)
 - 薬液供給設備向け機器
 - 薬ガス供給設備向け機器
 - N2パージ関連機器
 

流量センサ・コントローラ
気体用超小形流量センサ ラピフロー®
- 形番
 - FSM
 
一部バリエーション販売終了
流量センサ・コントローラ
カルマン渦式水用流量センサフルーレックス
- 形番
 - WFK3000
 
流量センサ・コントローラ
圧縮空気用流量センサ(表示分離形 FLUEREX)
- 形番
 - PFD
 
エジェクタシステム
真空エジェクタユニット(10.3mm幅)
- 形番
 - VSN・VSNM
 
高速、かつ安定した応答性を実現した小形エジェクタユニットです。
小形・軽量で、特に高さ寸法をコンパクト化しました。
【ノズル径】0.4, 0.5, 0.6 (㎜)
【吸込み流量】2~9.5 (L/min(ANR))
- 業種
 - 半導体製造工程(後工程)
 

吸着パッド
精密吸着プレート
- 形番
 - PVP
 
高真空用機器
真空圧力制御システム
- 形番
 - IAVB
 
高真空用機器
高真空用エアオペレイトバルブ
- 形番
 - AVB
 
CKD独自の成形べローズを採用した特殊構造で長寿命、高耐久性を実現しました。
高い信頼性と使いやすさを備えた高真空バルブです。
- 業種
 - 半導体製造工程(前工程)
 - 半導体製造工程(後工程)
 

高真空用機器
高真空用マニュアルバルブ
- 形番
 - MVB
 
一部バリエーション販売終了
ハンドル回転式の高真空用マニュアルバルブです。
アルミボディタイプとSUSボディタイプをご用意しております。
- 業種
 - 半導体製造工程(前工程)
 - 半導体製造工程(後工程)
 

高精度タイプ
τDISC 大中空径タイプ
- 形番
 - FD-s
 
大中空構造が、マシン設計の自由度を向上します(中空径:52mm~150mm)。
耐環境性に優れ、性能を向上させた磁気式ABSエンコーダを採用しています。
- 業種
 - 半導体製造工程(後工程)
 

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