純水・酸・アルカリ・溶剤など多種流体の液面レベルを高精度で検知し電気信号で出力します。

業種

• 半導体製造工程（前工程）
• N2パージ関連機器

業界最高クラスのシール性能・ヒステリシス・繰り返し再現性を誇るCKDのプロセスガスレギュレータ。
供給ガスの高精度な圧力/流量調整で安定プロセスを実現します。

業種

• 半導体製造工程（前工程）
• 薬液供給設備向け機器

カセットタイプで、さらに小形化（高さ39.5mm）を実現した高性能3・4ポートブロックマニホールドです。
【適応シリンダ径：Φ20~Φ40】

業種

• 半導体製造工程（前工程）
• 薬液供給設備向け機器
• 薬ガス供給設備向け機器
• N2パージ関連機器

薬液・純水供給部の圧力変動を、パイロットエアコントロールにより安定化できるレギュレータです。電空レギュレータとの組合せで遠隔操作による設定圧変更も可能です。

業種

• 半導体製造工程（前工程）

小形3ポート弁のあらゆる用途に対応します。（エアオペレイトバルブ/シリンダ駆動、吸着搬送、エアブローなど）
正圧専用の3QE/Zシリーズ、正負圧用の3QBシリーズ、正負圧用大流量の3QRシリーズがあります。
【適応シリンダ径：Φ…

業種

• 半導体製造工程（前工程）
• 半導体製造工程（後工程）
• 酸素濃縮器
• 透析監視装置
• 歯科医療装置

バルブ1連につき3ポート弁を2個搭載し、設置スペースを削減した直動式ブロックマニホールです。給排気ポートの取出し位置が選択できるため、配管取回しの自由度が向上します。
【適応シリンダ径：Φ４~Φ16】

業種

• 半導体製造工程（前工程）
• 薬液供給設備向け機器
• 薬ガス供給設備向け機器
• N2パージ関連機器

薬液用エアオペレイトバルブの新型スタンダードタイプ。
幅広く圧力・温度・流体の条件に対応するハイエンド商品です。
今まで細分化して使用していた機種を一つに統一できます。

業種

• 半導体製造工程（前工程）
• 薬液供給設備向け機器

薬液用エアオペレイトバルブのスタンダードタイプ。
成形品の接続オプションが一番豊富なシリーズです。
マニホールドも2種類から選択可能です。
高圧仕様もラインアップしております。

業種

• 半導体製造工程（前工程）

薬液用マニュアルバルブのスタンダードタイプ。
成形品の接続オプションが一番豊富なシリーズ。

業種

• 半導体製造工程（前工程）
• 薬液供給設備向け機器

コンパクト構造で確実な液切れ、サックバックを高精度制御可能です。ウェーハへの薬液吐出不良などの防止にご使用できます。
流体粘度に応じた最適化特注設計対応可能です。
エアオペバルブ一体型で配管工数の削減とコンパクト化を実現。

業種

• 半導体製造工程（前工程）