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半導体製造工程
N2パージ関連機器

デジタルカタログ

半導体デバイス製造のファシリティから生産プロセス装置まで、高純度、高精度に対応できる商品を「前工程」「後工程」「薬液供給設備向け機器」「薬ガス供給設備向け機器」「N2パージ関連機器」に分けて、ご提案いたします。薬液、ガス、真空を制御するバルブやレギュレータ、制御システムなど数多く取り揃えております。ISO9001に基づく、徹底した品質管理の元、バルブ単体から、バルブやレギュレータなどを組み合わせたパネルにも対応しております。

プロセスガス用機器

プロセスガス用マニュアルバルブ

形番
OGD

90°回転スナップアクション方式のマニュアルバルブです。

業種
  • 薬ガス供給設備向け機器
  • 薬液供給設備向け機器
  • 半導体製造工程(前工程)
  • N2パージ関連機器

プロセスガス用機器

プロセスガス用マニュアルバルブ

形番
MGD

マニュアル式メタルダイアフラムバルブ。270°回転方式のハンドル開閉タイプです。

業種
  • 薬液供給設備向け機器
  • 薬ガス供給設備向け機器
  • 半導体製造工程(前工程)
  • N2パージ関連機器

集積化ガス供給システム

クリーンパネル

形番
FICS

お客様のご要望・フローに応じて設計、製造、検査までCKDがユニット保証します。

業種
  • 薬ガス供給設備向け機器
  • N2パージ関連機器
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