前工序按流程介绍产品

【清洗】

CKD提供包括化学液体・化学气体・真空・压缩空气控制的全方位产品方案，涵盖半导体厂务设备到工艺设备所需的各种需求。快速查找商品请输入工艺名称・设备名称・工艺相关关键词。

【镀膜】

随着CVD、ALD等半导体镀膜设备对镀膜品质，镀膜速度的要求越来越高，工艺气体・真空的高精度调节也越发重要。CKD的高性能工艺气体阀具有高耐久度、耐高温、大流量・响应速度快等特点，为最新ALD工艺发展提供支持。同时还能提供高精度真空压力控制相关产品，对用户工艺提供全方位保障。

【绝缘涂料涂布】

伴随着半导体回路细微化进程发展，对绝缘涂料涂布均匀度、处理速度、设备尺寸的要求越来越高。CKD的多功能・高性能化学液体用元件可以满足用户在绝缘涂料涂布工艺中的各种需求。

【曝光】

除了控制纯水用的阀以外，还能提供设备内使用的N2用传感器等各种产品，为客户设备提供全面支持。可对应KrF, ArF, EUV等光源变化，欢迎咨询。

【显影】

伴随着半导体回路细微化进程发展，需要让显影液保持洁净并稳定持续喷射。CKD的产品可靠性高，可以为实现细微化工艺提供支持。

【刻蚀】

随着半导体的细微化・多层化的发展，刻蚀工艺的重要性越发突出。为了达到精密的细微化加工・精准的定点刻蚀效果，不仅需要高精度、高频率地对工艺气体进行控制，还要严格调节温度。CKD的工艺气体供气系统、流量模拟检测系统等可以为先进刻蚀工艺提供支持。

【剥离绝缘涂料】

可提供SPM等湿法工艺中使用的化学液体控制元件以及用于工艺气体、臭氧(O3)的工艺气体用精密元件。产品洁净度高，最大化降低工艺中异物进入的风险。包括气控阀导气控制用的压缩空气用电磁阀在内，CKD可以提供全方位支持。

【抛光】

提供研磨液、纯水控制工艺中不可或缺的化学液体控制元件。提供化学液体阀岛阀产品，为客户设备小型化提供支持。

【离子注入】

提供离子注入机不可或缺的工艺气体小流量供气产品和真空腔真空压力调节产品。产品包括各种工艺气体控制系统，真空阀，压缩空气用・N2用流量传感器等系列可供选择。欢迎选用流量控制系列产品。

【退火】

可提供氮气、氩气等惰性气体用控制阀，以及把周边元件统合在一起的集成化系统。可提供退火设备不可或缺的大流量工艺气体供气系统方案。产品也包含惰性气体用流量传感器，提供全方位支持。