前行程プロセス別商品紹介

【洗浄】

半導体成膜工程直前の特に高い洗浄度が要求される工程でも、高い清浄度を保ったまま、高精度に制御することができる薬液用機器を多数取り揃えております。高温プロセスにも対応できる製品もラインナップしております。

【成膜】

CVDやALDなどの半導体成膜工程は高品質な膜の生成、成膜速度向上のため日々進化しており、プロセスガス・真空を高精度に制御できる製品をご提供いたします。最先端ALDプロセス向けとしてバルブの高耐久化、高温化、大流量化・高応答化を図った高付加価値のガス供給機器をご提案いたします。あわせて真空圧力制御も高精度な製品でお客様のプロセス確立に貢献いたします。

【レジスト塗布】

半導体回路の微細化に伴う均一なレジストの塗布や、装置スループットの向上、フットプリントの削減などが求められるレジスト塗布工程において、弊社の高機能・高性能薬液機器がお客様のニーズにお応えいたします。

【露光】

純水などの制御用途のバルブはもちろんのこと、装置内で使用されるN2用センサーなど、幅広いラインナップでお客様の装置をトータルでサポートいたします。KrF, ArF, EUVなど光源の変化によるご要求の変化にも対応して参りますので是非ご相談ください。

【現像】

半導体回路の微細化に伴い常に綺麗な状態の現像液を安定させて吐出し続ける必要があるなど、プロセスの高度化が進んでいます。抜群の信頼性を誇る弊社製品がこれら微細プロセスの実現に貢献します。

【エッチング】

半導体の微細化・高層化の進展に伴いエッチング工程は増々重要性が高まっています。クリティカルな微細加工・深穴加工などを達成するためには高精度かつ高速なガスコントロールや温度制御が求められています。CKDのプロセスガス供給システムや流量モニタリングシステムなどで、最先端のエッチングプロセス確立に貢献いたします。

【レジスト剥離】

SPMなどのウェットプロセスで使用される薬液制御機器とガスやオゾン(O3)を用いたドライプロセスで使用されるガス制御機器の双方を取り揃えております。高清浄度の製品でありお客様のプロセスへの異物混入リスクも最小限に抑えます。エアオペレイトバルブ制御用の空気圧電磁弁も含めてCKDがトータルサポートいたします。

【研磨】

スラリーや純水制御に不可欠となる薬液制御機器を取り揃えております。薬液弁のマニホールド対応などでお客様の装置の小型化に貢献いたします。

【イオン注入】

イオン注入装置で重要になる少流量ガスの安定供給化やチャンバ真空圧制御をご提案します。各種ガス制御システム、真空バルブ、エアーやN2用流量センサーなど幅広いラインナップを取り揃えております。流体制御のことならお気軽にお問合せください。

【アニール】

窒素、アルゴンなどの不活性ガスの制御バルブや周辺機器を集積化したユニットなどのご提案も可能です。アニール装置に必要な大流量ガス供給のシステム一体のご提案も承ります。不活性ガス用流量センサーなども取り扱っており、トータルソリューションをご提供いたします。