商品一覧
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- 半導体製造工程
- N2パージ関連機器
半導体デバイス製造のファシリティから生産プロセス装置まで、高純度、高精度に対応できる商品を「前工程」「後工程」「薬液供給設備向け機器」「薬ガス供給設備向け機器」「N2パージ関連機器」に分けて、ご提案いたします。薬液、ガス、真空を制御するバルブやレギュレータ、制御システムなど数多く取り揃えております。ISO9001に基づく、徹底した品質管理の元、バルブ単体から、バルブやレギュレータなどを組み合わせたパネルにも対応しております。
液面センサ
ファインレベルスイッチ
- 形番
- KML
NEW
パイロット式3・4・5ポート電磁弁
パイロット式3・5ポート弁
- 形番
- 4GA/BR・M4GA/BR・MN4GA/BR
NEW
【NEW】AC200V対応オプションを追加しました。
対応通信拡大しました。
環境性能・安全性・信頼性・使いやすさが進化した3・5ポート弁の高機能タイプです。
【適応シリンダ径:Φ20~Φ100】
- 業種
- 組立
- 空気圧サプライ
- 精製水製造
- 調整
- 濾過
- 製袋(輸液バックの場合)
- 充填
- 滅菌(オートクレーブ)
- 包装
- 打錠
- 培養
- 分取
- 滅菌装置
- 理化学分析装置
- 半導体製造工程(後工程)
- 薬液供給設備向け機器
- 薬ガス供給設備向け機器
- N2パージ関連機器

流量センサ・コントローラ
小形流量センサ ラピフロー®
- 形番
- FSM3
【NEW】耐環境仕様(IP65)追加
1台で、空気、窒素、アルゴン、炭酸ガス、混合ガスと5種類のガスに対応可能な流量センサです。
- 業種
- シールドガス
- 半導体製造工程(後工程)
- N2パージ関連機器

流量センサ・コントローラ
小形流量コントローラ ラピフロー®
- 形番
- FCM
パイロット式3・4・5ポート電磁弁
PLC対応型ブロックマニホールド
- 形番
- MN3E・MN4E
カセットタイプで、さらに小形化(高さ39.5mm)を実現した高性能3・4ポートブロックマニホールドです。
【適応シリンダ径:Φ20~Φ40】
- 業種
- 半導体製造工程(前工程)
- 薬液供給設備向け機器
- 薬ガス供給設備向け機器
- N2パージ関連機器

エアオペレイト式3・4・5ポート弁
マスタバルブ
- 形番
- 4GA/BR・M4GA/BR
環境性能・安全性・信頼性・使いやすさが進化した3・5ポート弁のマスタバルブです。
【適応シリンダ径:Φ20~100】
- 業種
- 組立
- 空気圧サプライ
- 精製水製造
- 調整
- 濾過
- 製袋(輸液バックの場合)
- 充填
- 滅菌(オートクレーブ)
- 包装
- 打錠
- 培養
- 分取
- 滅菌装置
- 理化学分析装置
- 半導体製造工程(後工程)
- 薬液供給設備向け機器
- 薬ガス供給設備向け機器
- N2パージ関連機器

直動式3ポート電磁弁
ブロックマニホールド
- 形番
- MN3Q
バルブ1連につき3ポート弁を2個搭載し、設置スペースを削減した直動式ブロックマニホールです。給排気ポートの取出し位置が選択できるため、配管取回しの自由度が向上します。
【適応シリンダ径:Φ4~Φ16】
- 業種
- 半導体製造工程(前工程)
- 薬液供給設備向け機器
- 薬ガス供給設備向け機器
- N2パージ関連機器

プロセスガス用機器
プロセスガス用バルブ
- 形番
- LGD
メタルダイアフラム採用のプロセスガス用バルブの追加バリエーションです。高い信頼性と耐久性を継承しつつ、工法を最適化したエコノミーモデルです。
エアオペレイトタイプ、マニュアルタイプをご用意しております。
- 業種
- 薬ガス供給設備向け機器
- 薬液供給設備向け機器
- 半導体製造工程(前工程)
- N2パージ関連機器

プロセスガス用機器
エアオペレイトバルブ
- 形番
- AGD
メタルダイアフラムを採用したプロセスガス用バルブの基幹商品です。
単体、集積タイプだけではなく、3方弁、2連3方弁など多種多様な
バリエーションに対応をしております。
- 業種
- 薬ガス供給設備向け機器
- 薬液供給設備向け機器
- 半導体製造工程(前工程)
- N2パージ関連機器

高耐久バルブ
高温・高耐久ガスバルブ
- 形番
- AGD
微細化の進展により求められる高耐久に対応するプロセスガス用バルブです。
お客様のニーズに応じ、3種類のタイプを準備しております。
- 業種
- 薬液供給設備向け機器
- 薬ガス供給設備向け機器
- 半導体製造工程(前工程)
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