商品詳細
プロセスガス用レギュレータ
プロセスガス用レギュレータ
- 形番
- PGM
NEW
- 業種
- 半導体製造工程（前工程）
- 薬液供給設備向け機器
業界最高クラスのシール性能・ヒステリシス・繰り返し再現性を誇るCKDのプロセスガスレギュレータ。
供給ガスの高精度な圧力/流量調整で安定プロセスを実現します。
- 商品特徴
【高シール性】
プロセス安定化に貢献
● 弁座部の最適設計と超精密加工
● 弁閉動作時の2次側への漏れ（出流れ）を極限まで抑制
【高い微小流量制御性】
安定かつスムーズな動作を実現
● 弁座部形状の最適設計
● 微小流量でも安定制御
【ヒステリシス低減】
狙いの圧力に確実にミート
● 高品質材料の採用
● 超精密加工
- バリエーション
-
- 形番PGM-30V
- 名称
- プロセスガス用レギュレータ
- 流量
- 20ℓ/min
- 2次側設定圧力
- -0.07~0.21Mpa
- 備考
- 形番PGM-30
- 名称
- プロセスガス用レギュレータ
- 流量
- 20ℓ/min
- 2次側設定圧力
- 0~0.21Mpa
- 備考
- 形番PGM-50
- 名称
- プロセスガス用レギュレータ
- 流量
- 20ℓ/min
- 2次側設定圧力
- 0~0.35Mpa
- 備考
- 形番PGM-100
- 名称
- プロセスガス用レギュレータ
- 流量
- 20ℓ/min
- 2次側設定圧力
- 0~0.7Mpa
- 備考
- 形番PGM-H-60
- 名称
- プロセスガス用レギュレータ
- 流量
- 50ℓ/min
- 2次側設定圧力
- 0~0.42Mpa
- 備考
- 形番PGM-H-100
- 名称
- プロセスガス用レギュレータ
- 流量
- 50ℓ/min
- 2次側設定圧力
- 0~0.7Mpa
- 備考
- 形番PGM-2H-30V
- 名称
- プロセスガス用レギュレータ
- 流量
- 200L/min
- 2次側設定圧力
- -0.07～0.21Mpa
- 備考
- 形番PGM-2H-30
- 名称
- プロセスガス用レギュレータ
- 流量
- 200L/min
- 2次側設定圧力
- 0～0.21Mpa
- 備考
- 形番PGM-2H-60
- 名称
- プロセスガス用レギュレータ
- 流量
- 200L/min
- 2次側設定圧力
- 0～0.42Mpa
- 備考
- 形番PGM-2H-100
- 名称
- プロセスガス用レギュレータ
- 流量
- 200L/min
- 2次側設定圧力
- 0～0.7Mpa
- 備考